ESTADOS UNIDOS y CHINA: Próximos a firmar acuerdo de cooperación sobre propiedad intelectual PDF Imprimir Correo electrónico
Domingo 21 de Septiembre de 2008
USA & ChinaEl pasado 16 de septiembre, acorde con informaciones presentadas por IP WATCH, altos oficiales del gobierno chino y estadounidense, reiteraron su compromiso hacia una cooperación estratégica en materia de protección y observancia del derecho de autor y las marcas. Lo anterior, fue surgió de la XIX reunión de la Comisión Conjunta sobre Comercio entre los Estados Unidos de América y China, llevada a cabo en la ciudad de Yorba Linda, California.
 
Los países acordaron que sus respectivas oficinas de propiedad intelectual (La Oficina de Patentes y Marcas – USPTO y la Oficina de Derecho de Autor – Copyright Office, por parte de Estados Unidos, y la Administración Nacional de Derecho de Autor y la Administración Estatal para la Industria y el Comercio, por parte de China), firmarán dos memorandos de entendimiento sobre “cooperación estratégica” para la lucha contra las infracciones al derecho de autor y las marcas, antes que termine el año 2008.

Lo anterior, contrasta con la posición asumida por un representante chino, durante la conferencia coordinada por la Organización No Gubernamental (ONG) de países en desarrollo SOUTH CENTRE el pasado 16 de septiembre. Esta ONG se encuentra localizada en Ginebra, y su propósito es responder a la necesidad de análisis de problemas y experiencias en la esfera del desarrollo y proporcionar a los países en desarrollo apoyo intelectual y en materia de políticas para que puedan emprender acciones individuales y colectivas, en particular en el plano internacional.

Durante el evento académico en mención, el representante de China tomó la vocería y el liderazgo en nombre de los países en desarrollo, para criticar los avances a puerta cerrada de iniciativas como el ACTA (Acuerdo Comercial contra la Falsificación), las cuales están dejando de lado los intereses de los países en desarrollo Fin